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沈阳科晶自动化设备有限公司

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  • 产品总数:12
  • 单室等离子增强化学气相沉积(PECVD)
    单室等离子增强化学气相沉积(PECVD)

    简介:单室等离子增强化学气相沉积(PECVD)是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作用下,源气体电离形成等离子体,利用低温等离子体作为能量源,通入适量的反应气体,利用等离...

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    围观:133次 产地:辽宁 沈阳 产品详情
  • 1700℃两通道混气高真空CVD系统GSL-1700X-4-C2HV
    1700℃两通道混气高真空CVD系统GSL-1700X-4-C2HV

    简介:产品简介1700℃两通道混气高真空CVD系统GSL-1700X-4-C2HV是由单温区管式炉、两路质子混气系统和高真空机组组成,最高工作温度可达1600℃,混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导入管式炉内部,本系统极限真空度可达10-5torr。主要特点1、双层壳体,配有风冷系统,壳体温度...

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    品牌:科晶 围观:176次 产地:辽宁 产品详情
  • 1700℃单温区三通道混气CVD系统GSL-1700X-F3LV
    1700℃单温区三通道混气CVD系统GSL-1700X-F3LV

    简介:产品简介1700℃单温区三通道混气CVD系统GSL-1700X-F3LV是由单温区管式炉、三路浮子混气系统和双旋片式真空泵组成,最高工作温度可达1700℃,混气系统可以对三种气体进行精确的混气,真空度可达5×10-2torr。主要特点1、双层壳体,配有风冷系统,壳体温度55℃。2、采用高纯度氧化铝...

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    品牌:科晶 围观:124次 产地:辽宁 产品详情
  • 带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV
    带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV

    简介:产品简介带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加热至1200℃,并通过调整三个温区而建立不同梯度的热场,可进行退火、扩散、在不同气氛中烧结样品及CVD等实验。主要特点1、双层壳体,配有冷系统,炉体采用高纯度氧化铝多晶纤维保温材料。2、内炉膛表面涂有美国进口...

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    品牌:科晶 围观:124次 产地:辽宁 产品详情
  • 高真空三温区CVD系统
    高真空三温区CVD系统

    简介:产品简介t高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道质量流量控制器和高真空机组组成的CVD系统,其炉管直径为4″,最高温度可达1200℃,极限真空可达10-5torr,混气系统可对1-9种气体进行精确的混合,然后导入管式炉内部,可用来研究气体环境对材料的影响。主要特点t1、炉...

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    品牌:科晶 围观:193次 产地:辽宁 产品详情
  • 高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV
    高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV

    简介:产品简介高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP炉、三通道混气系统和高真空机组组成,可进行半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达3″)的退火,并采用10KW的红外灯进行加热,最快升温速度可达120℃/s,配有RS485接口,可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示...

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    品牌:科晶 围观:202次 产地:辽宁 产品详情
  • 1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV
    1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV

    简介:产品简介1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的,特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。主要特点1、采用高纯氧化铝保温材料,保证了极好的温度均匀性。2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和保...

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    品牌:科晶 围观:142次 产地:辽宁 产品详情
  • 高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV
    高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV

    简介:产品简介高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV是由单温区管式炉、两路质子混气系统和高真空机组组成,最高工作温度可达1200℃,混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导入管式炉内部,本系统极限真空度可达10-5torr。主要特点1、双层壳体,配有风冷系统,壳体温度60℃。2、内炉膛...

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    品牌:科晶 围观:167次 产地:辽宁 产品详情
  • 开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV
    开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV

    简介:产品简介开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV是由开启式单温区管式炉、机械泵、三通道浮子混气系统组成,可为CVD或扩散实验提供1-3种的混合气体,真空度可达10-2torr。主要特点1、双层壳体,配有循环风冷系统,壳体温度60℃。2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高加...

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    品牌:科晶 围观:142次 产地:辽宁 产品详情
  • 快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV
    快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV

    简介:产品简介快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达3″)的退火而设计,配有3路流量计和机械泵。本机采用9KW的红外灯进行加热,最快升温速度可达100℃/s,配有RS485接口,可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。主要特点1、双层...

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    品牌:科晶 围观:177次 产地:辽宁 产品详情
  • 微型PECVD系统
    微型PECVD系统

    简介:产品简介微型PECVD系统采用Φ3"×16"的石英腔体,内部设有加热圈对样品进行加热,最高温度可以达到400℃,且采用程序化控温,系统还配有2通道混气装置和双旋机械泵,整套系统安放于移动架上,便于实验操作。本系统系对于薄膜生长和纳米线的制作是最佳的选择。主要特点1、加热圈套有...

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    品牌:科晶 围观:142次 产地:辽宁 产品详情
  • 4路质子混气管式PECVD系统
    4路质子混气管式PECVD系统

    简介:产品简介4路质子混气管式PECVD系统是为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化,从而大大提高了反应物的活性,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表...

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    品牌:科晶 围观:297次 产地:辽宁 产品详情